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Halbleitertechnologie
| Fehlerquellen in der optischen Belichtungstechnik |
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Die erzeugten Strukturen weichen von der Vorlage ab, wenn die Belichtungszeit nicht optimal gewählt ist. Durch Über- oder Unterbelichtung fallen die erzeugten Strukturgrößen größer bzw. kleiner aus. Die Dauer der Belichtung muss daher zunächst an Testwafern abgestimmt werden, wobei auch die Temperaturbedingungen Einfluss haben. Außerdem können in der Projektionsbelichtung Fehlfokussierungen die Strukturen vergrößern.
Abb. 43: Strukturfehler und ihre Ursachen
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