In diesem Schritt erfolgt die selektive Belichtung der Lackschicht.

Zur Belichtung gibt es folgende Verfahren:

• Optische Belichtung (optische Lithografie) durch Bestrahlung mit Licht kurzer Wellenlänge im UV-Bereich. Auch die Belichtung mit Röntgenstrahlen ist möglich, jedoch weitaus aufwändiger.
• Belichtung mit Elektronen, die mit einem gezielten Strahl die gewünschten Bereiche belichten (Elektronenstrahllithografie)
• Auch ein Belichten durch Ionenstrahl ist möglich, diese Technik ist aber noch nicht zur Anwendung in der Produktion ausgereift.

Die Verfahren unterscheiden sich in ihrem Auflösungsvermögen. Bei optischen Belichtungstechniken, ist der Auflösung aufgrund von Beugungseffekten Grenzen gesetzt. Mit spezieller Maskentechnik, bei der die Phase des eintreffenden Lichts geeignet berücksichtigt wird, lassen sich bis zu einem gewissen Grad auch Strukturen mit Ausdehnungen unterhalb der Lichtwellenlänge realisieren. Für weiter Miniaturisierung kommt letztendlich  die Elektronenstrahllithografie zum Einsatz.

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